Uma aposta disruptiva que marcará tendência na indústria da moda terá lugar no Chile em março deste ano. Trata-se da primeira coleção de moda chilena feita com Inteligência Artificial, que será realizada pelos WISE Innovation Studios em colaboração com a renomada designer nacional Karyn Coo.
O evento, chamado Just Another AI. Exhibition, trará de volta o conjunto de roupas que fez de Coo a vencedora do concurso internacional Project Runway, gerando designs e esboços de moda em IA, que servirão de inspiração e guia para as roupas físicas que serão posteriormente confeccionadas.
Processo de criação com Inteligência Artificial
Dessa forma, através de telões gigantes e totens de última geração, os participantes poderão ver tanto o processo de criação quanto o resultado final, com uma experiência interativa e imersiva através da Realidade Aumentada. "Não apenas isso, as pessoas com seus tablets e telefones também poderão se posicionar na frente das peças, ver como elas ganham vida com elementos 3D e até mesmo experimentá-las virtualmente. Trata-se de uma experiência inédita que marcará um antes e um depois nas passarelas", afirmou Igal Weitzman, CEO e fundador da WISE Innovation Studios, detalhando que a diretora criativa e treinadora do desfile é Mariana Pardo, Chief Creative Officer da empresa.
Em relação à participação de Karyn Coo, Weitzman destacou seu compromisso “total em inovar e proporcionar novas experiências às suas consumidoras, estabelecendo tendências na moda a nível mundial. Ela será pioneira em adotar essas novas tecnologias para reviver criações que representam um marco fundamental em sua carreira”. Por sua vez, a designer comentou que “a coleção que fiz em 2011, onde fui vencedora do concurso, foi muito importante para mim e hoje poder revivê-la e reinterpretá-la em conjunto com a inteligência artificial e a WISE tem sido um processo extremamente divertido, passando do meu lado analógico para um lado totalmente tecnológico e inovador”.
